FERMI-RFPS-200是費(fèi)勉儀器公司最新生產(chǎn)的一種高效射頻等離子體源，通過(guò)線圈式結(jié)構(gòu)，能在真空腔體內(nèi)激發(fā)產(chǎn)生等離子體，激勵(lì)氣體種類包括但不限于H2、N2、O2、稀有氣體等，具有更好的穩(wěn)定性以及更精確的操控性，廣泛應(yīng)用于分子束外延系統(tǒng)（MBE）中氮化物生長(zhǎng)、氮原子注入和摻雜、氧化物生長(zhǎng)、氧原子的注入和摻雜、氫化物生長(zhǎng)以及氫原子表面清洗等。
| ● 高效穩(wěn)定的氮化物、氧化物、氫化物生長(zhǎng) | ● 精確的操控性能，簡(jiǎn)單易用 | ● 可以根據(jù)需求更換引出端口 |
| ● 內(nèi)有原子篩選孔,使離子體盡可能少的到達(dá)襯底 | ● 適用于MBE、真空解理鍍膜、氫原子襯底清洗等系統(tǒng) |
| 類型 | FERMI-RFPS-200 | |
| 真空兼容性 | CF100標(biāo)準(zhǔn)法蘭 | |
| 氣體負(fù)載 | N2，H2 | O2,H2 |
| 離子產(chǎn)生區(qū)材料 | PBN | 石英 |
| 冷卻方式 | 水冷 | |
| 進(jìn)氣裝置 | VCR1/4接頭 | |
| 真空工作距離 | 100-200mm | |
| 射頻匹配器 | 13.56MHz/500瓦 | |
| 水冷流速 | >1 L/min | |
| 手動(dòng)、自動(dòng)射頻匹配器 | 可選 | |
| 等離子體光譜檢測(cè) | 可選 | |
原子氫襯底脫氧處理及外延測(cè)試：
MBE生長(zhǎng)用射頻離子源實(shí)際案例：真空解理鍍膜系統(tǒng)
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